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Infraestrutura
disponível no LABNANO
Sistema
de Litografia por Feixe de Elétrons RAITH e_LINE.
Baseado em um Microscópio Eletrônico de Varredura
com
fonte de elétrons por emissão de campo com
resolução de imagem de 2 nm. Este equipamento
permite a
transposição de projetos com
resolução
superior a 20 nm, desvio entre regiões de
exposição vizinhas superior a 40 nm e
precisão de
superposição superior a 40 nm e conta com porta
amostras
com rotação e inclinação
com alta
precisão de posicionamento e sistema de
deposição
de metais por decomposição de gases
organometálicos. Este sistema contará ainda com
sistema
de feixe fixo, sistema para limpeza por plasma dentro da
câmara e
nanomanipuladores.
Microscópio
Eletrônico de Varredura analítico de baixo
vácuo JEOL JSM-6490LV.
O equipamento possui resolução de imagem de 3 nm
e contem
câmara de infravermelho, detector de elétrons
retroespalhados e Sistema de Espectroscopia por Dispersão de
Energia de Raios-X (EDS).
Microscópio
Eletrônico de Transmissão de alta
resolução JEOL 2100F 200kV.
Este equipamento possui fonte de elétrons por
emissão de
campo (FEG), Sistema de Espectroscopia de Perda de Energia de
Elétrons (EELS-GIF Tridium GATAN), Câmara CCD (11
Mpixel
GATAN Orius Camera), Sistema de Espectroscopia por Dispersão
de
Energia de Raios-X (EDS), possibilidade de
operação em
modo de Microscopia Eletrônica de Transmissão de
Varredura
(STEM). Sua resolução é de 0,16 nm.
Laboratório
de Preparação para Amostras de Microscopia
Eletrônica.
Corte com disco diamantado, sputtering para
deposição de
camada condutora, polidor de calotas esféricas (dimple
grinder),
polimento eletrolítico para amostras de MET (Tenupol),
polimento
iônico para afinamento de amostras para MET (ion milling).
Sala Limpa para
Processamentos em Litografia.
Sala classe 1000 com capelas classe 100 e equipada com
centrífuga para deposição de resiste
(spin
coater), placa aquecedora, sistema de para solda de contatos por
ultra-som (wire bonder), alinhadora ótica.
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